Ion Plating Plasma Assisted IPPA: vantaggi e prospettive

by Prof. Carlo Misiano

Thursday 12 Jun 2014, 14:15 → 15:15 Europe/Rome

Rostagni meeting room (INFN-LNL)

Dopo una brevissima introduzione ai processi di deposizione di film sottili mediante deposizione fisica da fase vapore PVD ,viene introdotta la tecnologia dell'Ion Plating nelle sue varie configurazioni con diverse sorgenti di vaporizzazione (termiche, sputtering, arco catodico , Pulsed Laser Ablation Deposition). Vengono quindi descritte le principali differenze rispetto alle tecniche tradizionali ed esposti i vantaggi in termini di qualità ed economicità dei film realizzati. Saranno, di seguito,  mostrati gli effetti del bombardamento ionico e/o particellare del substrato, prima, e del film in crescita poi, focalizzando, soprattutto, la variazione indotta sulla durata della fase “Adatomo”. Si passa quindi alla descrizione della tecnica dell'Ion Plating Plasma Assisted IPPA, delle sue principali configurazioni e relativi vantaggi, esponendo una versione modificata del Diagramma di Tornthon adattata ai parametri dell'IPPA.